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魔技納米無掩模激光直寫設(shè)備亮相了

更新時(shí)間:2022-06-30      點(diǎn)擊次數(shù):1223
魔技納米科技有限公司成立于2017年,是三維微納制造領(lǐng)域集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的高新技術(shù)企業(yè)。公司深入生物醫(yī)療、光電通信、新材料、微納器件等多個(gè)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域,擁有應(yīng)用于多行業(yè)場(chǎng)景的成熟加工工藝??啥ㄖ蒲邪l(fā)適配各產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域生產(chǎn)需求的個(gè)性化設(shè)備和產(chǎn)品,突破生物制藥、傳感、光電芯片、超材料等領(lǐng)域從科研到工業(yè)生產(chǎn)的屏障,將納米級(jí)制造精度和大范圍生產(chǎn)結(jié)合,提供針對(duì)精密智造領(lǐng)域的整套專業(yè)解決方案。
MN-UV-Ultra魔技納米無掩模激光直寫設(shè)備自主創(chuàng)新的激光直寫方式,采用非接觸式數(shù)字微鏡和矢量掃描加工方式相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)快速高平滑邊緣加工,同時(shí)實(shí)現(xiàn)高精度和高速加工模式。
MN-UV-Ultra無掩模激光直寫設(shè)備特點(diǎn):
1.無需掩模,可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精度的三維加工;
2.自主研發(fā)的超高速加工方式,便于工業(yè)應(yīng)用;
3.拼接誤差極小;
4.適用高達(dá)12英寸的基材;
5.全自動(dòng)控制系統(tǒng)。
主要技術(shù)參數(shù):
類型:Standard
最小線寬:0.8µm
最小線間距:1µm
邊緣粗糙度:0.04µm
結(jié)構(gòu)均勻性:0.08µm
對(duì)準(zhǔn)精度(100*100mm2):0.6µm
最大加工速度:75mm2/min
最大曝光面積:100*100mm2
光源LED/Laser:405/365nm
 

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